氬氣和氧氣是crf電漿清洗機常用的2種氣體

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• 作者：等離子清洗機-CRF plasma等離子設備-等離子表面處理機廠家-誠峰智造
• 來源：低溫等離子設備生產廠家
• 發布時間：2022-09-25
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【概要描述】氬氣和氧氣是crf電漿清洗機常用的2種氣體： ? ? ? ?crf電漿清洗機在清洗表面氧化物時用純氫雖然效率高，但這里主要考慮放電的穩定性和安全，在crf電漿清洗機應用時選用氬氫相混比較適宜，另外對于材料易氧化或易還原的材料crf電漿清洗機也可以采用顛倒O2和AR氫氣體的清洗順序來達到清洗徹底的目的。 ? ? ? AR：物理躍遷是AR清洗的機理。氬氣是有效的物理crf電漿清洗機清洗氣體,原因在于它原子的尺寸大?？梢允褂梅浅４蟮哪芰寇S遷樣品表面。正的氬離子將被吸引到負向電極板。撞擊力足以去除表面上的任何的污漬。然后這些氣態污物通過真空泵排出。 ? ? ? ? O2：化學工藝中等離子體與樣品表面上的化合物反應。例如有機污染物可以有效地用O2等離子去掉這里氧氣等離子與污染物反應,生成二氧化碳、一氧化碳和水。一般地說,化學反應清除有機污染物效果更好。O2是crf電漿清洗機常用的活性氣體，屬于物理+化學的處理方式，電離后產生的離子體能夠對表面進行物理躍遷，形成粗糙表面。同時高活性的o離子能夠與被斷鍵后的分子鏈發生化學反應形成活性基團的親水表面，達到表面活化的目的；被斷鍵后的有機污染物的元素會與高活性的氧離子發生化學反應，形成一氧化氮、二氧化碳、水等分子結構脫離表面，達到表面清洗的目的。O2主要應用于高分子材料表面活化及有機污染物去除，但不適用于易氧化的金屬表面。真空等離子狀態下的O等離子呈現淡藍色，部分放電條件下類似潔白。放電環境光線比較亮，肉眼觀察時可能會出現看不到真空腔體內有放電的情況。