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    通過分子間的化學鍵-crf真空等離子設備濺射的解析

    • 分類:業界動態
    • 作者:等離子清洗機-CRF plasma等離子設備-等離子表面處理機廠家-誠峰智造
    • 來源:真空等離子設備生產廠家
    • 發布時間:2022-09-26
    • 訪問量:

    【概要描述】通過分子間的化學鍵-crf真空等離子設備濺射的解析: ? ? ? ?由于TiC顆粒的密度比Fe-Cr熔液小在熔池的攪拌作用下容易上浮并聚集,因此靠近,涂層表面區域的TiC顆粒較多;而在涂層的底部區域TiC顆粒較少。crf真空等離子設備處理過程中的快速加熱和冷卻導致涂層熱應力大,導致涂層開裂。Fe-Cr-C-Ti涂層表面有些粗糙,但沒有裂紋。這是因為在Fe-Cr-C涂層的碳化復合組分中添加了Ti元素,發生Ti+C<→TiC反應原位合成TiC顆粒。 ? ? ? TiC的形成溫度高于初生碳化物的析出溫度。那么,這些彌散分布的TiC顆??赡茏鳛槌跎蓟锏漠愘|形核襯底而細化鉻的初生碳化物或消除鉻的初生碳化物。C3初生碳化物改善(Cr,Fe),C3共晶組織結構增加大量奧氏體組織、奧氏體在高溫及常溫狀態下均具有優異的強韌性能夠對涂層耐磨增強相提供強有力的支持降低涂層零件在服役過程中的開裂、剝落傾向。 ? ? ? ?因此大量TiC奧氏體組織的合成和形成,(CrFe),C減少或消除初生碳化物,(Cr,Fe),C改善共晶結構,有效提高涂層韌性,抑制涂層裂紋的產生。一般來說零件摩擦時磨損量與其接觸應力、相對速度、潤滑條件及摩擦副的材料有關;而材料的耐磨性與材料硬度、顯微組織有關。因此CRF真空等離子設備提高涂層的表面硬度是提高材料性能的重要途徑。

    通過分子間的化學鍵-crf真空等離子設備濺射的解析

    【概要描述】通過分子間的化學鍵-crf真空等離子設備濺射的解析:
    ? ? ? ?由于TiC顆粒的密度比Fe-Cr熔液小在熔池的攪拌作用下容易上浮并聚集,因此靠近,涂層表面區域的TiC顆粒較多;而在涂層的底部區域TiC顆粒較少。crf真空等離子設備處理過程中的快速加熱和冷卻導致涂層熱應力大,導致涂層開裂。Fe-Cr-C-Ti涂層表面有些粗糙,但沒有裂紋。這是因為在Fe-Cr-C涂層的碳化復合組分中添加了Ti元素,發生Ti+C<→TiC反應原位合成TiC顆粒。
    ? ? ? TiC的形成溫度高于初生碳化物的析出溫度。那么,這些彌散分布的TiC顆??赡茏鳛槌跎蓟锏漠愘|形核襯底而細化鉻的初生碳化物或消除鉻的初生碳化物。C3初生碳化物改善(Cr,Fe),C3共晶組織結構增加大量奧氏體組織、奧氏體在高溫及常溫狀態下均具有優異的強韌性能夠對涂層耐磨增強相提供強有力的支持降低涂層零件在服役過程中的開裂、剝落傾向。
    ? ? ? ?因此大量TiC奧氏體組織的合成和形成,(CrFe),C減少或消除初生碳化物,(Cr,Fe),C改善共晶結構,有效提高涂層韌性,抑制涂層裂紋的產生。一般來說零件摩擦時磨損量與其接觸應力、相對速度、潤滑條件及摩擦副的材料有關;而材料的耐磨性與材料硬度、顯微組織有關。因此CRF真空等離子設備提高涂層的表面硬度是提高材料性能的重要途徑。

    • 分類:業界動態
    • 作者:等離子清洗機-CRF plasma等離子設備-等離子表面處理機廠家-誠峰智造
    • 來源:真空等離子設備生產廠家
    • 發布時間:2022-09-26 17:33
    • 訪問量:
    詳情

    通過分子間的化學鍵-crf真空等離子設備濺射的解析:
           由于TiC顆粒的密度比Fe-Cr熔液小在熔池的攪拌作用下容易上浮并聚集,因此靠近,涂層表面區域的TiC顆粒較多;而在涂層的底部區域TiC顆粒較少。crf真空等離子設備處理過程中的快速加熱和冷卻導致涂層熱應力大,導致涂層開裂。Fe-Cr-C-Ti涂層表面有些粗糙,但沒有裂紋。這是因為在Fe-Cr-C涂層的碳化復合組分中添加了Ti元素,發生Ti+C<→TiC反應原位合成TiC顆粒。

    真空等離子設備      TiC的形成溫度高于初生碳化物的析出溫度。那么,這些彌散分布的TiC顆??赡茏鳛槌跎蓟锏漠愘|形核襯底而細化鉻的初生碳化物或消除鉻的初生碳化物。C3初生碳化物改善(Cr,Fe),C3共晶組織結構增加大量奧氏體組織、奧氏體在高溫及常溫狀態下均具有優異的強韌性能夠對涂層耐磨增強相提供強有力的支持降低涂層零件在服役過程中的開裂、剝落傾向。
           因此大量TiC奧氏體組織的合成和形成,(CrFe),C減少或消除初生碳化物,(Cr,Fe),C改善共晶結構,有效提高涂層韌性,抑制涂層裂紋的產生。一般來說零件摩擦時磨損量與其接觸應力、相對速度、潤滑條件及摩擦副的材料有關;而材料的耐磨性與材料硬度、顯微組織有關。因此CRF真空等離子設備提高涂層的表面硬度是提高材料性能的重要途徑。

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